※１．本システムにおいてはＴ−Ｎ、Ｔ−Ｐ、ＣＯＤも同時除去 も可能

※２．特殊ろ材層の充填剤を交換することによりヒ素除去対応可

※３．ノルマヘキサン及び有機物除去の場合は磁性体凝集剤を注入（間欠注入）